Китай создал прототип литографа для чипов

Китайские инженеры сделали значительный шаг в области полупроводников, представив прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, ранее контролировавшаяся голландской компанией ASML, критически важна для производства современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о том, что китайские компании, особенно SMIC, достигли определённого прогресса. В процессе разработки использовались устаревшие компоненты оборудования ASML. Хотя китайские специалисты еще не начали серийное производство чипов с использованием EUV, они планируют достичь этого к 2030 году. Это развитие происходит на фоне жесткой технологической конкуренции между Китаем и США, особенно в свете роста искусственного интеллекта. В дополнение к этому, Huawei совместно с SMIC строит новые производственные мощности, чтобы укрепить свои позиции на рынке.