В Зеленограде были представлены новые установки для плазмохимического осаждения и травления, разработанные НИИМЭ и НИИТМ. Это оборудование, позволяющее производить микросхмы на пластинах 300 мм с топологией до 65 нм, стало важным шагом для российской микроэлектроники. Всего пять компаний в мире занимаются производством подобных установок.
Проек был реализован при инвестициях в 2,5 млрд рублей, включая средства, выделенные Минпромторгом. НИИ молекулярной электроники отвечал за строительство чистых помещений и испытания нового оборудования. Кластерные системы, разработанные институтами, интегрируют несколько технологических процессов, что позволяет сократить себестоимость и повысить качество продукции.
Разработчики уверены, что оборудование будет востребовано как на российском, так и на международном рынках, с планами на презентацию в Китае в следующем году. Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков отметил, что для создания специализированного оборудования потребуется около 1,5 лет.
